时间 | 平均 | 最高 | 最低 |
---|---|---|---|
2025 | 0 | -219.58 | |
2024 | 0 | -12.29 | |
2023 | 0 | -12.69 | |
2022 | 86.59 | 122.4 | 44.57 |
2021 | 92.03 | 137.81 | 61.79 |
2020 | 85.12 | 137.97 | 58.7 |
2019 | 67.09 | 103.61 | 29 |
2018 | 38.71 | 51.34 | 25.59 |
2017 | 178.17 | 478.71 | 45.38 |
2016 | 402.56 | 528.45 | 272.76 |
2015 | 751.4 | 1940.11 | 208.09 |
2014 | 203.48 | 332.68 | 110.68 |
2013 | 112.05 | 160.93 | 77.14 |
【苏大维格:上半年净利润同比增长181.23%】 苏大维格(300331)8月27日晚间披露半年报,公司上半年实现营业收入9.33亿元,同比增长18.34%;净利润3424.47万元,同比增长181.23%;基本每股收益0.13元。 来自: 7x24
2024-08-27 21:58:26【苏大维格1亿元成立科技产投公司】 企查查APP显示,近日,苏州维格科技产业投资有限公司成立,法定代表人为蒋林,注册资本1亿元,经营范围包含:以自有资金从事投资活动;自有资金投资的资产管理服务等。企查查股权穿透显示,该公司由苏大维格全资持股。 来自: 7x24
2024-06-07 10:31:49【苏大维格:一季度净利润1636万元 同比增长1442%】苏大维格发布2024年第一季度报告,实现营业收入4.71亿元,同比增长19.79%;归属于上市公司股东的净利润1635.98万元,同比增长1441.84%;基本每股收益0.0630元。 来自: 7x24
2024-04-25 16:59:47【苏大维格:正在积极推进AR光波导等衍射光学器件应用】苏大维格近日在接受调研时表示,公司自主研发的激光直写光刻设备及纳米压印光刻设备是现有微纳光学材料产品开发、生产的核心支撑装备。公司目前正在重点拓展技术要求和毛利率较高的防伪材料、超薄高亮导光以及前光板等已量产产品的销售;同时也正在积极推进AR光波导、透明光场显示和裸眼3D显示等衍射光学器件的应用。 来自: 7x24
2024-01-11 21:51:38【苏大维格:在光伏铜电镀领域开发了相关图形化光刻设备,目前正处于测试验证阶段】有投资者提问:公司的激光直写设备是否可以用于光伏HJT电池的生产,是否已经进有订单在手,还是在设备验证阶段?苏大维格在互动平台表示,在光伏铜电镀领域,公司开发了相关图形化光刻设备,目前正处于测试验证阶段,尚未量产。 来自: 7x24
2023-11-26 18:02:54【苏大维格:开发了基于衍射光学的透明光场显示及裸眼3D等样机,目前还在做相关验证测试】公司开发了基于衍射光学的透明光场显示及裸眼3D等样机,目前还在做相关验证测试,尚未量产。 来自: 7x24
2023-11-26 17:46:07【苏大维格:因涉嫌信息披露违法违规,证监会决定对公司立案调查】苏大维格10月8日公告,收到中国证监会出具的《立案告知书》(编号:证监立案字0102023018号)和《调查通知书》(编号:证监调查字0102023382号),因公司涉嫌信息披露违法违规,根据《中华人民共和国证券法》《中华人民共和国行政处罚法》等法律法规,中国证监会决定对公司立案调查。立案调查期间,公司将积极配合中国证监会的调查工作,并严格按照监管要求履行信息披露义务。目前,公司各项生产经营活动正常开展。 来自: 7x24
2023-10-08 22:49:24【苏大维格:公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机】 苏大维格在互动平台表示,在大类上,光刻机主要有两种类型。第一类是掩摸光刻机,如ASLM的EUV设备,好比“复印机”,把掩摸上的图形投射到硅片上,可用于各类芯片的批量生产,这类光刻机技术工艺和材料难度极高;第二类是无掩摸光刻机,也称直写光刻机,包括激光直写光刻机和电子束光刻机等,用于直接将数据转变成相关图形,好比“打印机”,可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微结构的制备。公司长期从事光刻机的研制,光刻机实现了从自用到销售给国内外科研院所,再到销售给相关企业的发展路径。目前,公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机,其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率,在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小,部分应用领域离国际先进水平具有一定差距,需要持续的研发投入;纳米压印光刻领域,公司设备主要为自用,对外销售金额与直写光刻机相比较小;此外,公司也开发了投影扫描的光刻设备,拟应用于光伏电镀铜图形化领域,目前尚未实现销售。 来自: 7x24
2023-09-15 07:27:23【苏大维格:已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力】 苏大维格在互动平台表示,根据相关资讯,佳能等国际厂商拟尝试通过纳米压印技术在部分集成电路领域替代EUV光刻设备实现更低成本的芯片量产,公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力,并在积极布局。 来自: 7x24
2023-09-14 12:47:22